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无尘车间要控制相对湿度，以下几个影响因素也是关键：

金属腐蚀：很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增1高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。3、进入无尘车间之前***入缓冲区，缓冲区门安装电子互锁，更衣处放置洁净储衣柜空气清新机。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

水汽冷凝：在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。净化厂房墙、顶板材一般采用50mm厚的夹心彩钢板制造，其特点为美观、刚性强。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 所以必须要对无尘车间相对湿度控制。

光刻的退化：这在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。相对湿度：46-65%，噪声小于等于65分贝，新风弥补量：大于总送风量的15%，照度大于等于30。实际应用上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。

还有就是吸水性，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负1面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。

洁净车间必须设置  2个 以上安全出口，上班时间严禁上锁，并保持畅通。

注意：两个安全出口边缘距离不小于 5 米。

大量事故数据表明，3分钟后是火灾发展的猛烈阶段，同时产生大量足以致命的毒烟，所以无尘车间的作业人员必须在 3分钟内全部疏散到楼下！

若达不到则安全无保障！

可采取以下措施：

1、无尘车间增加直通室外的安全出口，且宜分散设置在人员密集区域，出口应开在疏散通道两侧。

2、如无法多增加安全出口，可采用破拆门、破拆窗等逃生设施，设置明显的提示标志，火灾发生时可以作为紧急出口使用。

3、增设应急逃生楼梯、逃生绳索，低楼层还可使用应急逃生滑梯，当火灾发生时，利用应急逃生楼梯、滑梯加快人员分流，缩短逃生时间。